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中国 发明 无效

一种环形磁控溅射装置 【EN】Circular magnetron sputtering device

申请(专利)号:CN201210375207.8国省代码:吉林 22
申请(专利权)人:【中文】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所【EN】Changchun Inst. of Optics and Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sci
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摘要:
【中文】一种环形磁控溅射装置,属于真空镀膜领域。目的在于解决现有技术中短部磁场不被作为工作有效区的问题,提高靶材的利用率。本发明的磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽板;内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上,靶体上面有靶基,靶基上有内外两圈压靶材条,靶材条位于靶基上,他们的组装体外设有外屏蔽板,所述内屏蔽板上部、内磁钢之外有内充气管,所述外磁钢及所述内磁钢与所述极靴组成一个环形的磁场。所述内磁钢为环状矩形磁钢,加长短部溅射区域,使短部区域的溅射也可作为工作的有效区域,提高了靶材的利用率,降低生产成本;此装置中间有一长形的孔,在其中装有内屏蔽板,再通过这一长形的孔装入内充气管,使起弧容易。 【EN】Paragraph:The invention relates to a circular magnetron sputtering device, belongs to the field of vacuum coating, and aims to solve the problem that a short magnetic field is not used as an effective operating area in the prior art and to increase utilization rate of a target. The circular magnetron sputtering device comprises an inner inflating tube, target compression bars, a target and an inner shield plate. Inner magnetic steel, outer magnetic steel and pole shoes are fitted to the target. A target base is arranged above the target and is provided with the inner and outer circular target compression bars located on the target base, and an outer shield plate is arranged outside a combination of the former components. The inner inflating tube is arranged on the upper portion of the inner shield plate and outside the inner magnetic steel. The outer magnetic steel, the inner magnetic steel and the pole shoes form a circular magnetic field. The inner magnetic steel is circular and rectangular, a short spluttering area is lengthened, and accordingly the short sputtering area can also be an effective operating area, utilization rate of the target is increased, and production cost is lowered. The circular magnetron sputtering device is provided with a middle elongated hole, the inner shield plate is disposed in the elongated hole, the inner inflating tube is disposed through the elongated hole, and accordingly arching is easy.Image:201210375207.GIF

主权项:
【中文】一种环形磁控溅射装置,包括外充气管(1)、靶材(2)、靶基(3)、外磁钢(6)、内磁钢(10)、极靴(9)及外屏蔽板(7),其特征在于,所述内磁钢(10)中间开有矩形孔进而形成环状矩形磁钢,所述极靴(9)中间开的孔与所述内磁钢(10)中间开的孔的大小相同;所述极靴(9)的长度及宽度与所述外磁钢(6)的长度及宽度相同;所述内磁钢(10)和所述外磁钢(6)置于所述极靴(9)上,所述外磁钢(6)外边缘与所述极靴(9)外边缘对齐,所述内磁钢(10)中间开的孔的内边缘与所述极靴(9)中间开的孔的内边缘对齐;所述外磁钢(6)及所述内磁钢(10)与所述极靴(9)形成一个环形的磁场。 【EN】1. annular magnetic control sputtering device, comprise outer gas-filled valve (1), target (2), target base (3), outer steel (6), interior magnet steel (10), pole shoe (9) and external shield plate (7), it is characterized in that, have rectangular opening in the middle of the described interior magnet steel (10) and then form ring-type rectangle magnet steel, the hole of opening in the middle of the described pole shoe (9) is big or small identical with the middle hole of opening of described interior magnet steel (10); The length of described pole shoe (9) and width are identical with length and the width of described outer steel (6); Described interior magnet steel (10) and described outer steel (6) place on the described pole shoe (9), described outer steel (6) outward flange aligns with described pole shoe (9) outward flange, and the preglabellar field in the hole of opening in the middle of the described interior magnet steel (10) aligns with the preglabellar field in the middle hole of opening of described pole shoe (9); Described outer steel (6) and described interior magnet steel (10) and described pole shoe (9) form the magnetic field of an annular.


说明书

一种环形磁控溅射装置

技术领域

本发明属于真空镀膜领域,具体涉及一种真空镀膜领域中真空沉积用


的环形磁控溅射装置。


背景技术

随着科学技术的发展,真空沉积制备的产品和器件越来越多,磁控溅


射靶是其关键的部件。磁控溅射靶主要的又分为柱状磁控溅射靶和平


面磁控溅射靶。平面磁控溅射靶又分为圆形磁控溅射靶和长的矩形磁


控溅射靶。圆形磁控溅射靶往往用于科研实验和小的器件制作;长的


矩形磁控溅射靶往往用于大规模的工业生产,大量地应用于电极的制


作。


常规的矩形磁控溅射靶的结构剖面示意图如图1所示,包括外充气管1


、靶材2、靶基3、外磁钢6、内磁钢10、极靴9及外屏蔽板7;所述外屏


蔽板7的上部、外磁钢6之外装有外充气管1,外屏蔽板7位于外磁钢6外


部,周围一圈外磁钢6为一个磁极,中间有一条内磁钢10为另一个磁极


,它们同极靴9组成一个环形的磁场,由于这两个磁极贴近靶基3,则


在靶基3上形成一个封闭磁场,在靶基3上加上负高压或高频电压,产


生了一个磁封闭电磁场,电离的气体离子将在这一电磁封闭的区域做


螺旋运动,不断地轰击靶基3上的靶材2,从而使靶材2产生溅射沉积;


但其工作的有郊区往往只限于在长部磁场的区域,而短部磁场的区域


由于溅射不均匀而不作为工作的有效区;因此一般磁控溅射设备的圆


形和矩形靶材理论上的利用率只有10%-30%,生产成本居高不下。


发明内容

本发明的目的在于提出一种环形磁控溅射装置,解决现有技术中短部


磁场不被作为工作有效区的问题,提高靶材的利用率。


为实现上述目的,本发明的一种环形磁控溅射装置包括外充气管、靶


材、靶基、外磁钢、内磁钢、极靴及外屏蔽板,所述内磁钢中间开有


矩形孔进而形成环状矩形磁钢,所述极靴中间开的孔与所述内磁钢中


间开的孔的大小相同;所述极靴的长度及宽度与所述外磁钢的长度及


宽度相同;所述内磁钢和所述外


磁钢置于所述极靴上,所述外磁钢外边缘与所述极靴外边缘对齐,所


述内磁钢中间开的孔的内边缘与所述极靴中间开的孔的内边缘对齐;


所述外磁钢及所述内磁钢与所述极靴形成一个环形的磁场。


所述环形磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽


板;所述内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上,所述靶体上面设有靶


基,所述靶基上设有内外两圈压靶材条,所述压靶材条位于靶基上,


整个溅射装置外部设有外屏蔽板,所述内屏蔽板上部、内磁钢之外设


有内充气管。


所述外磁钢、极靴、靶体及靶基均为矩形的环。


所述靶体和靶基组成的整体为密封体。


本发明的有益效果为:与传统的技术相比,本发明的溅射装置内磁钢


采用环状矩形磁钢,加长了短部的溅射区域,使短部区域的溅射也可


作为工作的有效区域,提高了靶材的利用率,降低生产成本;此装置


中间有一长形的孔,在其中装有内屏蔽板,再通过这一长形的孔装入


内充气管,使起弧容易。


附图说明

图1为普通磁控溅射装置侧剖视示意图;


图2为本发明环形磁控溅射装置半剖视示意图;


图3为图2所示的环形磁控溅射装置的A-A剖视图;


其中:1、外充气管,2、靶材,3、靶基,4、内充气管,5、压靶材条


,6、外磁钢,7、外屏蔽板,8、靶体,9、极靴,10、内磁钢,11、


内屏蔽板。


具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。


实施例一:


参加附图2、3,本发明的环形磁控溅射装置,包括外充气管1、靶材2


、靶基3、内充气管4、压靶材条5、外磁钢6、外屏蔽板7、靶体8、极


靴9、内磁钢10及内屏蔽板11;外磁钢6是矩形的环,内磁钢10也是矩


形的环,极靴9同样是矩形的环,它们组装在矩形的环状槽的靶体8内


,在它们的上面有靶基3,靶基3同样是矩形的。靶体8和它上面的靶基


3组成了一个真空和水的密封体,靶体8的下部有水的进出口。在靶基


3上有内外两圈矩形的压靶材条5,它们把


矩形的靶材2压在靶基3上。在它们的组装体外有外屏蔽板7,在它们组


装体的矩形孔洞内装有内屏蔽板11,下部有底屏蔽板。整个屏蔽板是


电学接地的。在外屏蔽板7的上部,外磁钢6之外装有外充气管1,内屏


蔽板11的上部内磁钢10之内装有内充气管4,它们可以同时充入溅射气


体和反应气体。在靶体8内的外磁钢6,为一个磁极,中间的内磁钢10


,为另一个磁极,它们同极靴9组成一个矩形的环状的磁场。在这个矩


形的环状磁场中,由于这两个磁极贴近靶基3,则在靶基3上形成一个


封闭矩形强磁场。工作时,在靶基3上加有负高压或高频电压,这样就


产生了一个磁封闭的电磁场,电离的气体离子将在这一电磁封闭的区


域内做螺旋运动,不断地轰击靶基3上的靶材2,从而使靶材2产生溅射


沉积。


实施例二:


本实施例是一生产透明导电薄膜的磁控溅射靶。外磁钢6是矩形的环,


它的长边410mm,短边260mm,磁钢宽15mm;内磁钢10也是矩形的环,


它的长边260mm,短边110mm,磁钢宽15mm;极靴9同样是矩形的环,它


的长边410mm,短边260mm,厚10mm,它的中间开有长边230mm,短边8


0mm的孔;它们组装在矩形的环状槽的靶体8内,在它们的上面有靶基


3,靶基3同样是矩形的,它的长边430mm,短边280mm,厚5mm,它的中


间开有长边210mm,短边60mm的孔。靶体8和它上面的靶基3组成了一个


真空和水的密封体,靶体8的下部有水的进出口。在靶基3上有内外两


圈矩形的压靶材条5,它们把矩形的靶材2压在靶基3上。靶材2同样是


矩形的环它的长边400mm,短边250mm,厚6mm,它的中间开有长边240


mm,短边90mm的孔。在它们的组装体外有外屏蔽板7,在它们组装体的


矩形孔洞内装有内屏蔽板11,下部有底屏蔽板。整个屏蔽板是电学接


地的。在外屏蔽板7的上部,外磁钢6之外装有外充气管1,在内屏蔽板


11的上部,内磁钢10之内装有内充气管4,它们可以同时充入溅射气体


和反应气体。在靶体8内的外磁钢6,为一个磁极,中间的内磁钢10,


为另一个磁极,它们同极靴9组成一个矩形的环状的磁场,这个磁场是


一个60mm...

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图1
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